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[发明专利]一种分色镜堆-CN200410048379.X有效
发明人：吴葆刚;吴佶宁;高建谧;温景悟 -专利权人：温景悟
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种分色镜堆，至少包括五层透明板和至少五层分色介质膜，所述透明板与所述分色介质膜相间设置，分色介质膜是红、绿、蓝三原色分色介质膜，该分色介质膜按白光带入射顺序，自前向后等间距且平行排列在同一条轴线上，所述三原色分色介质膜的长度相等，所述第二层分色介质膜的宽度是第一层分色介质膜宽度的二倍，所述第三层分色介质膜的宽度大于或等于第一层分色介质膜宽度的三倍，所述第四层分色介质膜的宽度大于或等于第一层分色介质膜宽度的二倍，第五层分色介质膜的宽度大于或等于第一层分色介质膜宽度的一倍，所述第一层分色介质膜宽度符合数学关系式：H＝L*tgA*2。
一种分色镜

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板-CN201611245730.3有效
发明人：齐永莲;曲连杰;贵炳强;赵合彬 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种显示基板及其制备方法、显示面板，该显示基板包括：第一基板；设置于所述第一基板上的子像素单元；设置于所述第一基板上的介质膜叠层；其中，所述介质膜叠层设置为消除通过所述介质膜叠层的具有特定波长范围内的蓝光，所述介质膜叠层包括交替层叠的至少一个第一介质膜层和至少一个第二介质膜层，所述第一介质膜层的折射率大于所述第二介质膜层的折射率。通过介质膜叠层中不同折射率的膜层交替设置，对入射光进行干涉可以将具有或接近特定中心波长的蓝光消除或减弱，以消除或减弱通过介质膜叠层的蓝光。
显示及其制备方法面板

[发明专利]光源及其制备方法、背光模组、显示面板-CN201810689800.7在审
发明人：杨勇 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本申请公开了一种光源及其制备方法、背光模组、显示面板，该光源包括：基板、固定于基板表面的发光芯片、设置于发光芯片表面的微结构，以及覆盖微结构和基板表面的荧光膜层；其中，微结构包括第一介质膜层和第二介质膜层，第一介质膜层覆盖发光芯片，第二介质膜层覆盖第一介质膜层，第一介质膜层的折射率小于第二介质膜层的折射率，第二介质膜层的折射率大于荧光膜层的折射率。
介质膜层折射率光源发光芯片微结构背光模组基板表面显示面板荧光膜层制备覆盖混光特性基板申请

[发明专利]接触孔的金属连接结构及其制造方法-CN201711102829.2有效
发明人：韩朋刚;习艳军;贺可强;杨渝书 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-11-10 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种接触孔的金属连接结构，包括：接触孔，形成于接触孔层介质膜中；接触孔层介质膜表面依次形成有自对准层介质膜和金属层介质膜；在自对准层介质膜的表面形成有打开定义金属连接通孔的形成区域的结构；金属层的形成区域由对金属层介质膜进行介质膜刻蚀形成，金属连接通孔的形成区域的自对准层介质膜在对金属层介质膜进行介质膜刻蚀的过程中被同时刻蚀去除，使金属连接通孔和金属层的形成区域呈自对准的一体化金属连接结构。本发明能使金属连接结构的通孔和正面金属层的形成区域呈自对准的一体化结构，从而有利于金属填充，降低工艺复杂度和工艺成本。
接触金属连接结构及其制造方法

[发明专利]半导体结构-CN202010805569.0在审
发明人：林佳桦;张耀文;吴启明;蔡正原;逸群·陈;蔡子中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：所述半导体结构包含金属化结构、多个导电垫及电介质层。所述多个导电垫在所述金属化结构上方。所述电介质层在所述金属化结构上且覆盖所述导电垫。所述电介质层包含第一电介质膜、第二电介质膜及第三电介质膜。所述第一电介质膜在所述导电垫上。所述第二电介质膜在所述第一电介质膜上。所述第三电介质膜在所述第二电介质膜上。所述第一电介质膜的折射率小于所述第二电介质膜的折射率，且所述第二电介质膜的所述折射率小于所述第三电介质膜的折射率。
半导体结构

[发明专利]一种高亮度近红外发光二极管及其制备方法-CN202010627584.0在审
发明人：吴向龙;徐晓强;闫宝华;王成新 -专利权人：山东浪潮华光光电子股份有限公司
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种高亮度近红外发光二极管及其制备方法，该发光二极管包括自下到上依次设置有N型欧姆接触层、介质膜窗口层、制备好的外延片、P型欧姆接触层和P型电极，所述介质膜窗口层上设置有窗口层图案。在n型GaAs衬底和N型欧姆接触层之间设置介质膜形成的介质膜窗口层，介质膜窗口层中无介质膜处可以与n‑GaAs衬底实现良好的欧姆接触，有介质膜处可以阻挡金属与n‑GaAs衬底融合，减少光的吸收，介质膜和N型欧姆接触层可以进一步形成ODR提升反射率。
一种亮度红外发光二极管及其制备方法

[发明专利]制造声波装置的方法和声波装置-CN201710499132.7有效
发明人：中村健太郎;松仓史弥;高桥直树;松田隆志;宫下勉 -专利权人：太阳诱电株式会社
申请日： 2017-06-27 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H03H3/08 文献下载
摘要：一种声波装置制造方法包括以下步骤：在压电基板上形成梳状电极和联接到梳状电极的布线层；在压电基板上形成第一电介质膜，该第一电介质膜具有比梳状电极和布线层的厚度大的膜厚度，并且覆盖梳状电极和布线层，并且由掺杂有其他元素的氧化硅或未经掺杂的氧化硅形成；在第一电介质膜上形成第二电介质膜，该第二电介质膜在布线层上方具有开口；通过使用蚀刻液的湿法蚀刻去除由第二电介质膜的开口露出的第一电介质膜，该蚀刻液使得第二电介质膜的蚀刻速率小于第一电介质膜的蚀刻速率，使得第一电介质膜残存以覆盖布线层的端面和梳状电极。
制造声波装置方法

[发明专利]带通滤光片及其制备方法-CN202010382748.8有效
发明人：张睿智;王迎;孙瑞乔;项争;张康;何冰晓;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2020-05-08 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：该带通滤光片包括基底层，以及依次在基底层上形成的第一介质膜堆、第一金属膜层、第二介质膜堆、第二金属膜层以及第三介质膜堆，第一介质膜堆、第二介质膜堆以及第三介质膜堆分别由介质膜层形成，且相邻两层介质膜层的折射率不同
滤光及其制备方法

[发明专利]一种介质膜光栅的制作方法-CN201210105951.6有效
发明人：林磊;黄富泉;周孝莲;代会娜;李广伟;张新汉 -专利权人：福州高意光学有限公司
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及光栅制作技术领域，公开了一种介质膜光栅的制作方法，首先制作母光栅；然后采用镀膜沉积技术在母光栅的光栅面上镀介质膜层；之后利用热塑性粘结剂将一光栅基片粘结于介质膜层上；最后将母光栅与介质膜层分离，得到由光栅基片与介质膜层构成的介质膜光栅；其中，在镀膜沉积过程中，通过控制和改变膜料的沉积方向和沉积速率，在母光栅的光栅面上形成周期倒梯形结构的介质膜层。本发明通过控制膜料沉积方向和速度，来控制介质膜光栅的膜层结构及厚度，避免了一些硬质膜系材料的刻蚀，同时可以实现较深凹槽深度的介质膜光栅的制作，适用于全息光栅的复制，有利于增加膜层结构的设计及控制光栅衍射效率
一种介质光栅制作方法

[发明专利]晶体管的形成方法-CN201410027709.0有效
发明人：赵杰 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-01-21 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种晶体管的形成方法，包括：提供衬底，衬底表面具有伪栅极结构，伪栅极结构包括：位于衬底表面的伪栅介质层、以及位于伪栅介质层表面的伪栅极层；在衬底和伪栅极结构表面形成介质膜，介质膜的表面高于或齐平于伪栅极层的顶部表面；在形成介质膜之后，进行退火工艺，使介质膜致密；在退火工艺之后，平坦化介质膜，直至暴露出伪栅极结构顶部表面为止，形成介质层；在平坦化介质膜之后，采用离子注入工艺在介质层表面形成致密层；在离子注入工艺之后，去除伪栅极层和伪栅介质层，在介质层内形成开口；在开口内形成栅介质层、以及位于栅介质层表面的栅极层，栅极层的表面与介质层齐平。
介质膜伪栅极结构伪栅介质层伪栅极层介质层晶体管离子注入工艺衬底表面顶部表面退火工艺栅介质层平坦化栅极层衬底齐平开口形貌致密介质层表面表面形成性能改善致密层去除暴露

[发明专利]日照遮蔽构件-CN201880031024.X在审
发明人：堀江裕树;加藤和广 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2018-04-16 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： B32B15/01 文献下载
摘要：本发明的日照遮蔽构件的特征在于，其在透明基材上具有低辐射膜，所述低辐射膜依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜和第4电介质膜，该第1电介质膜含有：位于该透明基材的正上方且包含硅和氮的电介质层A、位于该电介质层A上且包含钛和氧的电介质层B，该电介质层A的光学膜厚为12～86nm，该第1电介质膜、该第2电介质膜和第3电介质膜在最上层具有结晶性电介质层，该结晶性电介质层的光学膜厚为5～54nm，该第1金属膜、该第2金属膜和该第3金属膜为在正下方具有该结晶性电介质层的Ag膜。
电介质膜电介质层金属膜结晶性低辐射膜光学膜厚透明基材依次层叠遮蔽构件最上层日照

[实用新型]一种可钢化的三银LOW-E玻璃-CN201520473176.9有效
发明人：邱高忠;韩君晖;陈大伟 -专利权人：太仓耀华玻璃有限公司
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2015-10-28 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种可钢化的三银LOW-E玻璃，包括：玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上表面的第一电介质膜层、第一阻挡层、第一银层、第二阻挡层、第二电介质膜层、第三阻挡层、第二银层、第四阻挡层、第三电介质膜层、第五阻挡层、第三银层、第六阻挡层以及第四电介质膜层；所述第一电介质膜层为Si₃N₄层，第二电介质膜层为ITO氧化铟锡层，第三电介质膜层为氧化铬膜层，第四电介质膜层为Si₃N₄层；所述第一~第六阻挡层为Cu-N层或Cu-O层。所述三银LOW-E玻璃，降低遮阳系数，降低膜层表面辐射率，增强玻璃的隔热和保温性能，提高玻璃耐候性。
一种可钢化 low 玻璃

[实用新型]一种减反射膜玻璃-CN202021127399.7有效
发明人：谭小安;王琦;吕宜超 -专利权人：深圳南玻科技有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种减反射膜玻璃，包括依次层叠的玻璃基底、第一中折射率介质膜层、第二高折射率介质膜层和第三低折射率介质膜层；所述第一中折射率介质膜层的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层的折射率为1.47～1.53；所述第一中折射率介质膜层为SiOxNy层，其中，x/y为2/10～3/10；所述第二高折射率介质膜层为Si3N4层或Nb2O5层或TiO2层；所述第一中折射率介质膜层的厚度为80nm～100nm，所述第二高折射率介质膜层的厚度为15nm～55nm；所述第三低折射率介质膜层的厚度为70nm～90nm。
一种减反射膜玻璃

[发明专利]薄层电容结构、薄层电容结构的制造方法及电子设备-CN202011140791.X在审
发明人：梁时元;崔栽荣;贺晓彬;李亭亭;杨涛;刘金彪 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H01L23/64 文献下载
摘要：本申请公开了一种薄层电容结构、薄层电容结构的制造方法及电子设备，该薄层电容结构在上部电极和下部电极之间配置多层电介质膜的电介质层，多层电介质膜中任意相邻两层电介质膜的形成材料不相同，且每层电介质膜是根据该电介质膜具有的消光系数和折射率计算得到的膜厚沉积得到，以使得任意相邻两层电介质膜表面的反射光线相互抵消。对于每层电介质膜的膜厚由该电介质膜的固有属性消光系数和折射率计算得到，而不是每层电介质膜均采用相同膜厚沉积。对于根据消光系数和折射率决定的膜厚形成相应的电介质膜，可使得光线在每层电介质膜表面产生的反射光线相互抵消，由此可将多层电介质膜的反射光线累积降为最低，减小光刻对准失败的几率。
薄层电容结构制造方法电子设备

[发明专利]一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法-CN201711368315.1在审
发明人：时庆文;李素云;周伟杰 -专利权人：信利光电股份有限公司
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善电子产品盖板颜色稳定性的方法，包括：S1.提供一基板；S2.在所述基板上形成介质膜层，所述介质膜层覆盖在所述基板朝向观测一侧的表面上，所述介质膜层包括至少一层高折射率光学膜层以及至少一层低折射率光学膜层，高折射率光学膜层和低折射率光学膜层交替层叠设置；S3.在所述介质膜层上形成颜色稳定层，颜色稳定层的材质是透明的，折射率为1.38‑1.7，所述颜色稳定层的厚度大于0.5μm。本发明通过在介质膜层上设置材料为透明材料，折射率为1.38‑1.7、且厚度大于0.5μm的颜色稳定层，对介质膜层的光谱影响较小，减弱或消除脏污、指纹和光学介质膜产生的干涉效应对介质膜层颜色产生的变化，改善盖板的颜色稳定性
介质膜层颜色稳定颜色稳定性光学膜层盖板基板低折射率折射率电子产品光学介质膜折射率光学干涉效应高折射率交替层叠设置材料透明材料颜色产生透明的光谱膜层脏污指纹观测覆盖

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